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Waferlase ID

Extreme Anforderungen an Geschwindigkeit und Präzision

Waferlase ID Systeme erfüllen die teilweise extremen Anforderungen hochspezialisierter Prozesse in der Halbleiterproduktion. Die Laserbeschriftung von Wafern dient der Rückverfolgbarkeit des Herstellungsprozesses. Die Lasermarkierung muss maschinenlesbar und ohne Einfluss auf die weiteren Herstellungsschritte sein sowie am Ende der Prozesskette immer noch eine eindeutige Identifizierung zulassen. Waferlase ID Systeme erzeugen staubfreie Lasermarkierungen, die den Anforderungen der höchsten Reinraumklassen genügen.

Das Waferlase ID System ist erhältlich als Waferlase ID 200 für die Lasermarkierung von Silicon Wafern bis zu einer Größe von 200 mm und als Waferlase ID LED spezialisiert auf die Nachverfolgung von LED Produkten.

Merkmale auf einen Blick

  • Kleine Stellfläche
  • Open-Cassette System
  • Geringer Wartungsaufwand
  • Zuverlässiger Betrieb, geeignet für Reinraum Umgebungen
  • Bewärte Steuerungselektronik zur Pulsstabilität für hohe Genauigkeit und Reproduzierbarkeit
  • Zweiarmiger Be- und Entlade-Roboter für den Wafer Transport mit elektronischem pre-align

Abmessungen (B x T x H) [mm]:
Gewicht:
Laser:

1270 x 1600 x 2151
820 kg
Diodengepumpte Festkörperlaser mit einer Wellenlänge von 1064 nm, 532nm, und 355 nm
optional Sealed-off CO2 Laser mit einer Wellenlänge von 10600 nm